2024年08月16日 11:13:56
三星或最快于年底引進High-NA EUV設備
《科創(chuàng)板日報》16日訊，三星計劃在今年年底或2025年第一季度引入其首臺High-NA EUV光刻機“EXE:5000”，預計該設備將用于晶圓代工業(yè)務。目前，ASML僅制造了8臺EXE:5000設備，其中多臺已經被英特爾公司預定。 (首爾經濟日報)
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