《科創(chuàng)板日報(bào)》19日訊，SK海力士EUV材料技術(shù)人員表示，該企業(yè)計(jì)劃于2026年首次導(dǎo)入ASML的High NA EUV光刻機(jī)。SK海力士新近成立了一個High NA EUV研發(fā)團(tuán)隊(duì)，正致力于將High NA EUV光刻技術(shù)應(yīng)用到最先進(jìn)DRAM內(nèi)存的生產(chǎn)上。 (ZDNet Korea)