2024年08月19日 14:19:19
《科創(chuàng)板日報》19日訊,三星傳將減少ASML新一代極紫外光(EUV)光刻機(jī)的采購規(guī)模,雙方在韓國建設(shè)研發(fā)中心的合作計劃存在中斷可能。 (Digtimes)
收藏
327.65W
我要評論
歡迎您發(fā)表有價值的評論,發(fā)布廣告和不和諧的評論都將會被刪除,您的賬號將禁止評論。
發(fā)表評論
關(guān)聯(lián)話題
1.79W 人關(guān)注