2024年11月04日 17:35:34
機構(gòu)：預(yù)計ASML High NA EUV光刻機功耗約1400千瓦
《科創(chuàng)板日報》4日訊，TechInsights表示，每臺ASML 0.33 NA EUV光刻機的功耗就已經(jīng)達到了1170kW，而0.55NA (High NA) 光刻機的功耗預(yù)計將進一步增長至1400kW。
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