《科創(chuàng)板日?qǐng)?bào)》15日訊，日本先進(jìn)半導(dǎo)體代工企業(yè)Rapidus購(gòu)入的第一臺(tái)ASML EUV光刻機(jī)將于2024年12月中旬抵達(dá)北海道新千歲機(jī)場(chǎng)，這也將成為日本全國(guó)首臺(tái)EUV光刻設(shè)備。根據(jù)Rapidus高管以往表態(tài)，該光刻機(jī)是較早期的0.33 NA型號(hào)，而非目前全球總量不足10臺(tái)的0.55 NA（High NA）款。 (日本經(jīng)濟(jì)新聞)