財聯(lián)社1月14日電，市場監(jiān)管總局近日批準(zhǔn)新建二維線紋基準(zhǔn)裝置，填補(bǔ)我國校準(zhǔn)影像測量儀、光學(xué)顯微鏡等光學(xué)精密測量設(shè)備和高精度光刻機(jī)母版制造設(shè)備的二維線紋標(biāo)準(zhǔn)器的測量能力空白，核心技術(shù)實現(xiàn)完全自主可控。二維線紋基準(zhǔn)裝置測量范圍為320mm×320mm，最優(yōu)測量不確定度僅28nm，相當(dāng)于頭發(fā)絲直徑的2500分之一。該基準(zhǔn)裝置主要特點是大范圍、微尺寸、多參量，可為二維尺寸、位置及形狀提供量值溯源，達(dá)到國際先進(jìn)水平。該基準(zhǔn)裝置有助于解決亞微米、納米級光刻機(jī)母版的二維線紋“測不準(zhǔn)”的難題，為電子通信、軌道交通、航空航天、醫(yī)療設(shè)備等高端制造領(lǐng)域精密加工和測量設(shè)備提供技術(shù)支撐和保障。 (央視新聞)