2025年03月12日 13:37:34
《科創(chuàng)板日報(bào)》12日訊，報(bào)道稱三星電子本月初在其華城園區(qū)引入了ASML生產(chǎn)的High NA極紫外光刻（EUV）設(shè)備，希望提升2納米及以下制程的競爭力。 (FNnews)
收藏
閱135.95W
我要評論
歡迎您發(fā)表有價(jià)值的評論，發(fā)布廣告和不和諧的評論都將會被刪除，您的賬號將禁止評論。
發(fā)表評論
關(guān)聯(lián)話題
1.92W 人關(guān)注