《科創(chuàng)板日報(bào)》30日訊，三星正在考慮在其下一代DRAM極紫外（EUV）光刻工藝中應(yīng)用金屬氧化物抗蝕劑（MOR）。MOR被業(yè)內(nèi)認(rèn)為是下一代光刻膠（PR），會接棒目前先進(jìn)芯片光刻中的化學(xué)放大膠（CAR）。三星正考慮在第6代10納米DRAM（1c DRAM）中使用MOR，主要在六層或七層上使用EUV PR，相關(guān)產(chǎn)品將于今年下半年投入生產(chǎn)。 (TheElec)