2024年12月19日 08:51:10Rapidus開始安裝日本首臺ASML EUV光刻機 計劃2027年量產(chǎn)2nm芯片
《科創(chuàng)板日報》19日訊，Rapidus已開始在位于北海道的在建芯片制造工廠安裝日本首臺ASML極紫外(EUV)光刻設備。 公司正與IBM合作，計劃于2025年春季采用最先進的2nm工藝開發(fā)原型芯片，并于2027年實現(xiàn)量產(chǎn)。 (NIKKEI)
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